Electrodeposición de películas de NiO sobre óxidos transparentes conductores como potencial material transportador de huecos en dispositivos fotoelectroquímicos basados en perovskitas, para su aplicación en la mitigación de ion nitrato y cromo hexavalente en medio acuoso / Alfredo Caballero Martino.

Título Profesional Biólogo Marino. Universidad de Valparaíso. 2022.

Bibliografía: hojas 58 - 61.

Los elevados niveles de contaminación producto del uso de combustibles fósiles junto con la alta demanda energética, han hecho imperioso el desarrollo de tecnologías para explotar fuentes de energía renovables tales como la energía química ofrecida por el hidrógeno y la energía solar. Actualmente, los estudios dedicados a optimizar y abaratar las tecnologías que explotan dichas energías han ido aumentando progresivamente. De hecho, los dispositivos fotovoltaicos y fotoelectroquímicos basados en perovskitas se perfilan como tecnologías promisorias, debido a que este material posee un alto coeficiente de absorción óptica, una alta movilidad electrónica y un ancho de banda electrónica prohibida ajustable, entre otras cualidades para aprovechar la luz del sol. Dichas características han estimulado un rápido progreso en los últimos años, aumentando su eficiencia y mejorando su estabilidad para ser comercializables. Para potenciar la eficiencia de estos dispositivos, se ha estudiado la sinergia que existe entre películas transportadoras de huecos de óxido de níquel, NiO, y Perovskitas, ya que existe un correcto alineamiento de anchos de banda prohibida entre ambas capas. Así, en este estudio, se propone una manera eficiente y potencialmente escalable de producir películas de NiO por medio de electrodeposición, un método controlado y con menores perdidas comparado con otros métodos. Se espera que las películas de NiO, formadas bajo estas condiciones, sirvan en los pasos venideros al presente estudio, como alternativa para fabricar celdas fotoelectroquímicas que permitan mitigar iones nitrato y cromo hexavalente en medios acuosos. Para ello se evaluaron diferentes parámetros críticos para llevar a cabo la electrodeposición, tales como la densidad de corriente impuesta, el tipo de precursor de iones hidróxido, la convección forzada del electrolito y su concentración. El ajuste preciso de estos parámetros permitió obtener una película de NiO de espesor uniforme, cristalina y en algunos casos muy conforma! y libre de defectos en su morfología.